是什么使純水設備的脫鹽率下降過快？

選擇反滲透膜進行脫鹽處理，是目前脫鹽凈化水設備中技術發(fā)展方向。RO設備在日常運行中，RO純水設備的脫鹽率下降過快，RO純水設備的脫鹽率急劇下降的原因是什么？

高壓差導致 脫鹽速率下降。

壓力差異的增加同時通常會隨著鹽分的快速減少而減少。所有正常流量下，壓差的增高一般是由于安全流道中的隔網(wǎng)液排入殘留物所致，污染了化學物質(zhì)和污垢，導致 產(chǎn)水減少。

如果膜片長期受到污染，特別是微生物的污染，在運行過程中，給排水工作壓力增加過快，膜片的水擊壓差就會很大，這也會導致膜片壓差增大。給水與濃水之間的壓差表示的是水力產(chǎn)生的摩擦阻力，與給水流量、給水溫度有關，應保持給水與濃水有的出水量。產(chǎn)生高壓差的可能性是：污垢，微生物菌種污染，RO阻垢劑沉積，濾網(wǎng)過載物質(zhì)泄漏，給排水/濃水密封損壞。

二是在線化學水處理不科學。

超純水設備在運行中很難避免被污染。只有把反滲透的污染概率降到很低的程度，才能避免各種藥物的預先處理。所以，運行一段時間后的反滲透系統(tǒng)軟件，要對哪一種污染物進行充分的討論，確定哪一種污染物。對丙烯酸樹脂薄膜的性能，可以根據(jù)相應的污漬選擇合適的清潔劑。

硫酸鹽(36%-硫酸鈉)，配置為0.12%稀溶液，除氫氧化性物質(zhì)。

氫氧化鈉溶液，配置為0.1%的稀溶液，除去硅石、微生物菌膜、有機物等，pH約12左右。作用作用是對有機化學微生物菌種粘膜的水解反應破壞而脫離，針對二氧化硅膠體溶液中的垢，產(chǎn)生的偏硅為可溶性垢，然后清洗。

作為抗氧化劑在工業(yè)凈化中被廣泛應用，pH10.5-11.5為1%溶液，添加濃度值為0.5%-1%。

十二烷基磺酸鈉屬于陽離子表活劑，目地是分散于水溶液中的有機化合物，可使水溶液界面張力降低，產(chǎn)生正吸音，這樣可使水溶液表面層物質(zhì)的量濃度分子結(jié)構(gòu)的濃度值超過水溶液內(nèi)部物質(zhì)的量濃度的濃度值。十二烷基磺酸鈉是反滲透凈化的關鍵表活劑，添加濃度值為0.025%。

(e)室內(nèi)甲醛，室內(nèi)甲醛對大腸菌群、細菌、病毒感染、芽胞和瘧原蟲等均有較強的殺滅能力，加量為0.5%-35。

三、余氯操作不當。

作為sha菌劑，氫氧化鈣被廣泛應用于純水設備的準備處理。反滲系統(tǒng)軟件中，為了防止 反滲透過程中微生物的污染，須對反滲透過程中的微生物進行處理。在砂濾設備進口處，利用比色儀測量余氯，操縱余氯的質(zhì)量濃度值一般為0.5mg/L，不小于0.3Mg/L，在反滲透前多介質(zhì)處理余氯的質(zhì)量濃度低于0.%。但丙烯酸樹脂類薄膜的突出問題是如何避免其氧化。滲透余氯濃度和空氣氧化強度對其造成不良危害，須嚴格控制。所以及時檢測反滲透水的余氯含量非常重要。